Как Россия создала первый фотолитограф с разрешением 350 нм

22 марта, в сообщении информационного издания «ТАСС» на основании Telegram-канала мэра Москвы Сергея Собянина, было объявлено о выходе на рынок первого в России фотолитографа с разрешением 350 нм.

«В мире меньше десяти стран способны создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе — Россия. Мы сделали важный шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства».

Мэр Москвы также отметил, что разработка фотолитографа велась в сотрудничестве с белорусским заводом, который обладает значительным опытом в данной области. Новая российская разработка существенно отличается от иностранных аналогов, так как впервые в ней используется мощный и энергоэффективный твердотельный лазер вместо ртутной лампы, как в зарубежных моделях. Кроме того, фотолитограф уже нашёл своего первого заказчика, и специалисты сейчас адаптируют технологические процессы под его нужды.

Кроме того, по информации мэра, российские специалисты уже начали работу над созданием фотолитографа с разрешением 130 нм, и предполагается завершение разработки к 2026 году.