Как новый материал из Нижегородского университета изменит производство кремниевых микросхем

Специалисты Национального исследовательского Нижегородского государственного университета им. Н. И. Лобачевского (ННГУ) разработали инновационный материал, который может стать основой для производств кремниевых микросхем в будущем. О новом универсальном методе создания материалов сообщили в пресс-службе учебного заведения.

«Нижегородские учёные получили плёнку с кремнием в гексагональной фазе. Этот материал поможет повысить энергоэффективность транзисторов, увеличить поток тока при более низком напряжении. Разработка улучшит характеристики базовых компонентов микросхем и производительность процессоров».

По словам Антона Конакова, доцента кафедры квантовых и нейроморфных технологий физического факультета ННГУ, гексагональная фаза кремния обладает уникальной кристаллической структурой.

«Для некоторых направлений проводимость материала значительно повышается, что ведёт к увеличению электрического тока. Обычно такие слои нестабильны и быстро превращаются в обычный кремний. Мы смогли стабилизировать гексагональную фазу, что открывает новые перспективы для её использования в промышленности».

Новый материал выращивается на специальной подложке из кремния, после чего осуществляется этап стабилизации верхнего слоя с помощью германия. Именно под этим слоем формируется кремний в гексагональной фазе. Российские учёные утверждают, что такую плёнку можно использовать на больших участках микросхем, имеющих множество контактов. В дальнейшем авторы исследования планируют масштабировать технологию и адаптировать её для серийного производства отечественной микроэлектроники.

Также в ННГУ отметили, что их специалисты разработали несколько уникальных систем для выращивания тонких плёнок германия и кремния.

«Эти решения также были запатентованы. Их можно применить для создания широкого спектра материалов, включая различные тонкоплёночные структуры, используемые в микроэлектронной промышленности».